等離子清洗設(shè)備也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔等目的。
等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。【等離子表面清洗】
等離子體表面處理儀就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
等離子清洗設(shè)備原理：
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。
等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
在真空腔體里，通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體，通過(guò)等體子體轟被清洗產(chǎn)品面．以達(dá)到清洗目的。
等離子清洗設(shè)備結(jié)構(gòu)
等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三個(gè)大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。就以下三個(gè)部分做一個(gè)陳述：
1、控制單元：
目前國(guó)內(nèi)使用的等離子清洗機(jī)，包括國(guó)外進(jìn)口的，控制單元主要分為半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。
而控制單元又分為兩個(gè)大的部分：1）電源部分：主要電源頻率有三種，分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的，而2.45GHz又稱(chēng)為微波等離子，主要的功能作用，前面已經(jīng)提到了，這里就不一一介紹了。2）系統(tǒng)控制單元：分三種，按鈕控制（半自動(dòng)、全自動(dòng)）、電腦控制、PLC控制（液晶觸摸屏控制）。
2、真空腔體：
真空腔體主要是分為兩種材質(zhì)的：1）不銹鋼真空腔體，2）石英腔體。
3、真空泵：
真空泵分為兩種：1）干泵 、2）油泵
我們?cè)陂L(zhǎng)期從事等離子體應(yīng)用技術(shù)研究和設(shè)備研制的基礎(chǔ)上，充分借鑒歐美的先進(jìn)技術(shù)，并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外著名研究機(jī)構(gòu)的技術(shù)合作，開(kāi)發(fā)出具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的電容耦合放電、電感耦合放電和遠(yuǎn)區(qū)等離子放電等多種放電類(lèi)型的產(chǎn)品。特色鮮明的處理腔體形狀和電極結(jié)構(gòu)可以滿(mǎn)足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
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更新時(shí)間：2018-06-12
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